CVD(化學(xué)氣相沉積)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質表面(miàn)反應合成(chéng)塗層或納米材料的方法，是工業中應用最爲廣泛的用來沉積多種(zhǒng)材料的技術，包括大範圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。其一般應用于集成(chéng)電路制造、粉末合成(chéng)、金屬精緻等。

　　從政策環境上來看，我國(guó)對(duì)于CVD設備較爲重視，其主要體現在相關政策對(duì)于發(fā)展半導體設備的支持。如《十三五國(guó)家科技創新規劃》中，薄膜設備(PVD設備、CVD設備等)被(bèi)列爲國(guó)家需要攻克的高端制造裝備;《中國(guó)制造2025》中也提到，要形成(chéng)集成(chéng)電路關鍵制造設備的供貨能(néng)力。

　　近年來，CVD工藝不斷發(fā)展，形成(chéng)了較爲固定的工藝流程，同時(shí)也根據不同的應用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技術。一般來說(shuō)，不同的CVD技術需要不同的CVD設備來承載，一定程度上也促進(jìn)了CVD設備制造工藝的發(fā)展。

　　全球CVD設備市場的主要企業有應用材料、泛林半導體和TEL這(zhè)三家，據Gartner披露，這(zhè)三家企業合計占據了全球近70%的市場份額。其中，應用材料所占市場份額爲30%;泛林半導體和TEL各自占據21%和19%。

　　目前全球主流的CVD設備仍爲PECVD、APCVD和LPCVD，據Gartner數據披露，這(zhè)三類CVD設備合計市場份額約占總市場份額的70%;其中PECVD的市場份額約爲35%。

　　我國(guó)CVD設備的國(guó)産化率近年來雖然在不斷增長(cháng)，但整體來看仍然較低。從長(cháng)江儲存2017年至2020年2月CVD設備累計招标采購份額來看，僅有3%的CVD設備來自于我國(guó)國(guó)産企業(沈陽荊拓)，由此可見，我國(guó)CVD設備競争力與海外知名企業相比仍具有一定的差距。

　　目前我國(guó)CVD設備的主要生産企業包括北方華創和沈陽荊拓，這(zhè)兩(liǎng)家企業近年來發(fā)展勢頭較好(hǎo)，CVD設備相關技術也正在加緊研發(fā)中，未來或將(jiāng)成(chéng)爲我國(guó)CVD設備國(guó)産化率大幅提升的主要動力源。

　　以上數據來源于前瞻産業研究院《中國(guó)半導體産業戰略規劃和企業戰略咨詢報告》，同時(shí)前瞻産業研究院提供産業大數據、産業規劃、産業申報、産業園區規劃、産業招商引資等解決方案。